W系列微型XRF 使用多毛細管光學器件將X射線束聚焦到7.5 μm FWHM,這是使用XRF技術進行涂層厚度分析的世界最小的光束尺寸。
使用140倍放大倍率相機來測量該比例的特征; 它配有輔助的低倍率輔助相機,用于實時查看樣本和鳥瞰宏觀圖像。
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W系列微型XRF 使用多毛細管光學器件將X射線束聚焦到7.5 μm FWHM,這是使用XRF技術進行涂層厚度分析的世界最小的光束尺寸。 這使其非常適合測量樣品,例如BGA和較小的焊料凸點。 使用140倍放大倍率相機來測量該比例的特征; 它配有輔助的低倍率輔助相機,用于實時查看樣本和鳥瞰宏觀圖像。 Bowman的雙攝像頭系統使操作員可以看到整個零件,單擊圖像以使用高磁攝像頭進行縮放,然后精確定位要編程和測量的功能。
每個軸精確到小于+/-1μm的可編程XY平臺用于選擇和測量多個點; Bowman模式識別軟件和自動對焦功能也可以自動執行此操作。 系統的3D映射功能可用于查看諸如硅晶片的部件上的涂層的形貌。
W系列儀器的標準配置包括7.5μm鉬靶光學結構(可選鉻和鎢)和高分辨率、大窗口硅漂移探測器,該探測器每秒可處理超過2百萬次計數。
W 系列微型 XRF 是 Bowman XRF 儀器套件中的第 7 個型號。 與產品組合中的其他產品一樣,它同時測量多達 5 個涂層并運行先進的 Archer 軟件以根據檢測到的光子量化涂層厚度。 Archer 軟件將直觀的視覺控制與省時的快捷方式、廣泛的搜索功能和“一鍵式”報告相結合。 該軟件還簡化了用戶創建新應用程序的過程。
X射線管: |
50 W Mo 目標 Flex-Beam 毛細管光學器件 @7.5 FWHM 在 17 KeV 可選:Cr或W |
探測器: | 優于135eV分辨率的大窗口硅漂移探測器 |
輸出焦深: | 固定為0.08英寸(2.03毫米) |
工作環境: | 溫度介于68°F(20°C)與77°F(25°C)之間,相對濕度小于98%,無冷凝 |
重量: | 190kg(420lbs) |
可編程XYZ平臺: |
XYZ行程:300毫米(11.8英寸)x 400毫米(15.7英寸)x 100毫米(3.9英寸) XY桌面:305mm(12“)x 406mm(16”) X軸準確度:2.5um(100u“); X軸精確度:1um(40u“) Y軸準確度:3um(120u“); Y軸精確度:1um(40u“) Z軸準確度:1.25um(50u“); Z軸精確度:1um(40u“) |
元素測量范圍: | 13號鋁元素到92號鈾元素 |
分析能力: |
5層(4層+基材)每層分析10種元素, 成分分析最多可同時分析25種元素 |
濾波器: | 4位置一次濾波器 |
數字脈沖處理: | 4096 多通道數字處理器,自動死時間和逃逸峰校正 |
處理器: |
英特爾,酷睿i5 3470處理器(3.2GHz),8GB DDR3內存, 微軟 Windows 10專業版,64位 |
相機: | 1/4''(6mm)CMOS-1280×720 VGA分辨率 |
視頻放大倍率: | 140X 微型、7X 數字變焦、9X 微距和表格視圖 |
電源: | 150W,100?240V; 頻率范圍為47Hz到63Hz |
尺寸(高 x 寬 x 深): |
樣品倉尺寸:100mm(4“)x 914mm(36”)x 735mm(29“) 外形尺寸:787mm(31“)x 940mm(37”)x 990mm(39“) |
其他新特征: |
Z軸防撞陣列 自動聚焦和自動鐳射 模式識別 先進的自定義數據調用 |
W系列Micro XRF適用于:
-需要檢測晶圓,引線框架,PCB
-需要快速測量多個樣品的多個點
-期望在多個樣品上實現自動化測量
-需要符合IPC-4552、4553、4554、4556
-ASTM B568及ISO 3497
-希望升級舊的XRF性能及效率